Szybka litografia elektronowa o wysokiej rozdzielczości

5 lipca 2011, 12:15

W MIT Research Laboratory of Elekctronic zaprezentowano szybką litografię elektronową, która pozwala na uzyskanie rozdzielczości 9 nanometrów. W połączeniu w innymi właśnie powstającymi technologiami pozwala to mieć nadzieję, że w przyszłości metoda ta będzie wykorzystywana w masowej produkcji układów scalonych.



Pielgrzymka do Mekki stanie się coraz bardziej ryzykowna z powodu zmian klimatu

23 sierpnia 2019, 11:58

Jak bowiem wynika z badań przeprowadzonych przez naukowców z MIT, w wyniku zmian klimatu wilgotność i temperatura w miejscach odbywania hadżdż zmienią się tak, że przebywanie na zewnątrz stanie się „ekstremalnie niebezpieczne”.


EUV coraz bliżej

4 marca 2016, 07:22

W końcu jasna przyszłość rysuje się przed litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV). Producenci układów scalonych z niecierpliwością czekają na tę technologię, gdyż pozwala ona na naświetlenie plastra krzemowego w jednym przebiegu


Ekstremalnie droga litografia

22 listopada 2010, 11:10

Na urządzenia litograficzne kolejnej generacji będą mogły pozwolić sobie tylko nieliczne firmy. Sprawdzają się bowiem najbardziej pesymistyczne przewidywania dotyczące ich ceny. Dan Hutcheson, prezes firmy VLSI Research poinformował, że skanery litograficzne pracujące w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) będą kosztowały.... 125 milionów dolarów za sztukę.


TSMC również zainwestuje w ASML

6 sierpnia 2012, 07:32

TSMC to kolejny półprzewodnikowy gigant, któremu zależy na przyspieszeniu prac nad sprzętem litograficznym kolejnej generacji. Tajwańskie przedsiębiorstwo ma zamiar zainwestować w ASML 1,4 miliarda dolarów. Już wcześniej inwestycję w wysokości 4 miliardów USD zapowiedział Intel.


Inżynier IBM-a sprawdza 300-milimetrowy plaster z układami CMOS© IBM

Prawo Moore'a zagrożone?

6 października 2012, 09:12

Eksperci zgromadzeni na Międzynarodowym sympozjum nt. litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie uznali, że prawo Moore'a może być zagrożone przez opóźniające się prace nad narzędziami do EUV


Inżynier IBM-a sprawdza 300-milimetrowy plaster z układami CMOS© IBM

Ruszyły prace nad 5 nanometrami

21 grudnia 2015, 10:16

Koncern TSNM rozpoczął prace nad 5-nanometrowym procesem technologicznym. Jednocześnie firma wciąż nie zdecydowała, czy będzie używała litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV)


Po 50 latach udało się znaleźć rzadki typ gwiazd podwójnych

2 grudnia 2021, 12:37

Astronomowie z Center for Astrophysics w końcu zaobserwowali nowy typ gwiazdy podwójnej, której istnienie przewidziano przed 50 laty. Obserwacje są ostatecznym potwierdzeniem teorii dotyczących powstawania i ewolucji tego rzadkiego typu gwiazd. To brakujące ogniwo ewolucyjne tworzenia się gwiazd podwójnych. Od dawna go szukaliśmy, mówi główny autor badań, Kareem El-Badry.


MIT zapowiada 12-nanometrową litografię

23 lipca 2008, 11:11

Niedawno informowaliśmy, że naukowcy z MIT przygotowali narzędzia (w tym tzw. nanolinijkę), dzięki którym możliwe będzie wykorzystanie technik litograficznych do produkcji układów scalonych w procesie 25 nanometrów. Mark Schattenburg, dyrektor Space Nanotechnology Laboratory w MIT, mówi: ... sądzimy, że używając obecnie dostępnej techniki jesteśmy w stanie zwiększyć rozdzielczość co najmniej dwukrotnie.


Nowa, tania metoda litograficzna

16 sierpnia 2010, 17:47

Na Northwestern University powstała nowa technologia litograficzna, która może zrewolucjonizować produkcję układów scalonych. Litografia piórem świetlnym (beam-pen litography - BPL) pozwala na szybkie i tanie tworzenie prototypowych układów scalonych.


Zostań Patronem

Od 2006 roku popularyzujemy naukę. Chcemy się rozwijać i dostarczać naszym Czytelnikom jeszcze więcej atrakcyjnych treści wysokiej jakości. Dlatego postanowiliśmy poprosić o wsparcie. Zostań naszym Patronem i pomóż nam rozwijać KopalnięWiedzy.

Patronite

Patroni KopalniWiedzy